為了跟上爆炸性的全球需求,DRAM 及 NAND 快閃记忆体製造商需要最大程度地提高生产力,同時保持最高水平的品質、一致性和可靠度。實現這些目標給其晶圓廠製程帶來了艱鉅的挑戰。

晶圆厂主要挑战:

  • 生成高深宽比的结构
  • 最大化接合工程的微缩
  • 处理多样图形的问题

羞羞视频 解決方案:

我們提供業界頂尖的離子植入解決方案協助记忆体製造商的諸多挑戰。我們的 Purion 平台提供:

  • 使用我們獨家的 Vector? 控制系統進行精準的角度控制
  • 我們的 Eterna? ELS 離子源提供無可匹敵的能量純度
  • 领先业界的微粒和金属污染控制
  • 為材料改质提供最广泛范围的植入元素
  • 為缺陷工程最大程度地提高品質和生产力

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